TY - JOUR TI - Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition of Al 2 O 3 on Graphene Using Monolayer hBN as Interfacial Layer AU - Canto, Bárbara AU - Otto, Martin AU - Powell, Michael J. AU - Babenko, Vitaliy AU - O'Mahony, Aileen AU - Knoops, Harm C. M. AU - Sundaram, Ravi S. AU - Hofmann, Stephan AU - Lemme, Max C. AU - Neumaier, Daniel T2 - Advanced Materials Technologies DA - 2021/07/26/ PY - 2021 DO - 10.1002/admt.202100489 DP - DOI.org (Crossref) SP - 2100489 J2 - Adv. Mater. Technol. LA - en SN - 2365-709X, 2365-709X UR - https://onlinelibrary.wiley.com/doi/10.1002/admt.202100489 Y2 - 2021/09/20/11:20:56 ER -