TY - JOUR
TI - Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition of Al 2 O 3 on Graphene Using Monolayer hBN as Interfacial Layer
AU - Canto, Bárbara
AU - Otto, Martin
AU - Powell, Michael J.
AU - Babenko, Vitaliy
AU - O'Mahony, Aileen
AU - Knoops, Harm C. M.
AU - Sundaram, Ravi S.
AU - Hofmann, Stephan
AU - Lemme, Max C.
AU - Neumaier, Daniel
T2 - Advanced Materials Technologies
DA - 2021/07/26/
PY - 2021
DO - 10.1002/admt.202100489
DP - DOI.org (Crossref)
SP - 2100489
J2 - Adv. Mater. Technol.
LA - en
SN - 2365-709X, 2365-709X
UR - https://onlinelibrary.wiley.com/doi/10.1002/admt.202100489
Y2 - 2021/09/20/11:20:56
ER -